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极紫外光刻新技术问世，超越半导体制造业的标准界限

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极紫外光刻新技术问世，超越半导体制造业的标准界限

据科技日报报道称，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造

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2024-08-03

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